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興化市中天金屬材料有限公司
2010

興化市中天金屬材料有限公司

       興化市中天金屬材料有限公司始建于2010年,現(xiàn)有員工近30人,其中技術(shù)研發(fā)人員4人,工程是2人,銷售9人,售后3人,專業(yè)從事鍍鉻專用陽(yáng)極、陽(yáng)極氧化專用鉛板和電解專用鉛板的研發(fā)、制造和銷售。

       自2010年起,公司每年拿出部分資金,用于對(duì)陽(yáng)極生產(chǎn)工藝進(jìn)行大規(guī)模技術(shù)改造。并多次對(duì)關(guān)鍵壓鑄設(shè)備及熱擠壓成型設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)。現(xiàn)已具備年產(chǎn)陽(yáng)極360噸的生產(chǎn)能力

       通過(guò)提高陽(yáng)極使用壽命和導(dǎo)電性能,為用戶節(jié)約生產(chǎn)成本,是本公司的發(fā)展之道。我公司將以“信譽(yù).質(zhì)量.創(chuàng)新.品牌”更好的服務(wù)于整個(gè)電鍍行業(yè)。

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圖片名稱
生產(chǎn)一覽1

生產(chǎn)一覽1

生產(chǎn)一覽2

生產(chǎn)一覽2

生產(chǎn)一覽3

生產(chǎn)一覽3

圖片名稱
滾鍍鉻鍍層發(fā)花的原因及處理方法

滾鍍鉻鍍層發(fā)花的原因及處理方法

滾鍍鉻鍍層發(fā)花的原因及處理方法 由于滾筒清洗不干凈,導(dǎo)致滾筒內(nèi)的鉻酸殘留液,若清洗不充分,它們對(duì)工件表面的鎳鍍層等產(chǎn)生腐蝕作用,造成鉻鍍層發(fā)花。 處理方法: a.工件裝人滾筒前,將滾筒充分清洗干凈; b.滾筒使用一定的時(shí)間后,用鹽酸處理,以除去滾筒網(wǎng)上的鉻層

09.15

2021

滾鍍鉻鍍層發(fā)花的原因及處理方法

滾鍍鉻鍍層發(fā)花的原因及處理方法 由于滾筒清洗不干凈,導(dǎo)致滾筒內(nèi)的鉻酸殘留液,若清洗不充分,它們對(duì)工件表面的鎳鍍層等產(chǎn)生腐蝕作用,造成鉻鍍層發(fā)花。 處理方法: a.工件裝人滾筒前,將滾筒充分清洗干凈; b.滾筒使用一定的時(shí)間后,用鹽酸處理,以除去滾筒網(wǎng)上的鉻層

09.15

2021

鍍鎳溶液的維護(hù)方法

鍍鎳溶液的維護(hù)方法 1、嚴(yán)格控制鎳板和化工原料純度添加化學(xué)藥品時(shí),先在另 一容器中用少量鍍液加溫溶解后,經(jīng)過(guò)濾后再加入鍍液中。硼酸要 用80℃以上的熱水溶解后加人。 2、嚴(yán)格按照工藝流程操作鍍件進(jìn)人鍍鎳槽前,嚴(yán)格進(jìn)行脫 脂、除銹等前處理,徹底清洗干凈后方可人槽。 3、防止鐵、銅雜質(zhì)溶人鍍液當(dāng)有鍍件落人鍍槽中,要及時(shí) 打撈上來(lái)。 4、鍍液應(yīng)定期分析調(diào)整,每月至少分析一次,每班要用pH 精密試紙(3.8~5.4)檢測(cè)鍍液pH值,并用10%硫酸降低pH值 至工藝范圍內(nèi)。 5、每周至少過(guò)濾一次鍍液,如果出現(xiàn)因雜質(zhì)引起的故障,要 以除去雜質(zhì)為目的的溶液大處理。 6、電解處理在工作之余,采用大面積瓦楞形陰極,以 0.05~0.01A/dm2的電流密度進(jìn)行電解處理,電解時(shí)間4~8h以 上,可除銅、鋅等雜質(zhì),以凈化鍍液。

09.15

2021

硫酸亞錫含量過(guò)高導(dǎo)致的故障及處理辦法

硫酸亞錫含量過(guò)高導(dǎo)致的故障及處理辦法 硫酸亞錫是酸性鍍錫的主鹽,提高濃度在允許的范圍內(nèi)可提高陰極電流密度上限,加快沉積速度。但是若濃度過(guò)高,分散能力下降,光亮區(qū)縮小,鍍層色澤變暗,結(jié)晶粗糙;若濃度過(guò)低,生產(chǎn)效率下降,鍍層易燒焦 處理方法:稀釋鍍液,分析調(diào)整鍍液成分至標(biāo)準(zhǔn)值

09.15

2021

電鍍時(shí)間過(guò)長(zhǎng)導(dǎo)致的故障及處理辦法

電鍍時(shí)間過(guò)長(zhǎng)導(dǎo)致的故障及處理辦法 鍍層亮度與鍍層的厚度有一定的關(guān)系,如電鍍時(shí)間過(guò)短,鍍層太薄,光亮度差。 處理方法:延長(zhǎng)電鍍時(shí)間,保證鍍層厚度和光亮度

09.15

2021

電流密度過(guò)大或過(guò)小導(dǎo)致的故障及處理辦法

光亮鍍錫電流密度一般控制在1~4A/dm2。電流密度過(guò)大,鍍層疏松、粗糙、多孔、邊緣易燒焦,脆性增加;電流密度過(guò)小,沉積速度過(guò)低,鍍層光亮度低,不能獲得全光亮的鍍層。對(duì)于滾鍍電子元器件,電流密度- -般控制在工藝范圍的下限 處理方法:準(zhǔn)確測(cè)量受鍍工件面積,合理設(shè)定電流值